四氟化碳廢氣處理

由于四氟化碳是目前微電子工業中用量z大的等離子蝕刻氣體，因而四氟化碳廢氣主要產生于半導體產業生產工藝等離子蝕刻。目前，半導體產業四氟化碳廢氣處理方法，主要是通過直接燃燒方法，熱催化氧化方法，等離子體分解方法進行廢氣凈化。

四氟化碳氣體排放量逐年増加，直接排放會造成空氣污染，甚z人體吸入高濃度的四氟化碳會出現呼吸困難、嘔吐等窒息癥狀。那么四氟化碳氣體怎么處理？格林斯達廢氣處理公司為您介紹半導體行業四氟化碳廢氣處理方法如下：

公司對半導體產業四氟化碳氣體處理方法主要采用直接燃燒法（TO），也稱為直接火焰燃燒，它是把廢氣中可燃的有害組分當做燃料直接燒掉，因此這種廢氣處理方法只適用于凈化可燃有害組分濃度較高的廢氣，或者是用于凈化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣，因為有燃燒時放出的熱量能夠補償散向環境中的熱量時，才能保持燃燒區的溫度，維持燃燒的持續。